X熒光光譜測(cè)厚儀

XU-100

產(chǎn)品類(lèi)型：能量色散X熒光光譜分析儀

產(chǎn)品名稱(chēng)：鍍層測(cè)厚儀

產(chǎn)品型號(hào)：XU-100

        XU-100鍍層測(cè)厚是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度極高的鍍層測(cè)厚儀，C型開(kāi)槽設(shè)計(jì)樣品腔，讓其滿足了既可測(cè)量超微小樣品的檢測(cè)，同時(shí)還可滿足超過(guò)樣品腔尺寸的大工件測(cè)量。

被廣泛用于各類(lèi)產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

1）搭載微聚焦加強(qiáng)型X射線發(fā)生器和先進(jìn)的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)，*小測(cè)量面積達(dá)0.03mm2

2）擁有無(wú)損變焦檢測(cè)技術(shù)，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-30mm

3）核心EFP算法，可對(duì)多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準(zhǔn)檢測(cè)**層Ni和第三層Ni的厚度）

4）配備高精密微型移動(dòng)滑軌，可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的精準(zhǔn)位移和同時(shí)檢測(cè)

5）可同時(shí)分析23個(gè)鍍層，24種元素，測(cè)量元素范圍：氯Cl（17）- 鈾U（92），涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92），涂鍍層*低檢出限：0.005μm

6）人性化封閉軟件，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作

7）配有微光聚集技術(shù)，*近測(cè)距光斑擴(kuò)散度10%

行業(yè)應(yīng)用：釹鐵硼鍍鎳鍍銅鍍鎳（Ni/Cu/Ni/NdFeB）

釹鐵硼磁鐵具有優(yōu)異的磁性能，被廣泛應(yīng)用于電子、電力機(jī)械、醫(yī)療器械、玩具、包裝、五金機(jī)械、航天航空等領(lǐng)域。

釹鐵硼磁鐵的常見(jiàn)的電鍍方式為鍍鎳鍍銅再鍍鎳，由于該類(lèi)鍍層方式中同一元素Ni鍍層分布在不同的層級(jí)，加上X射線熒光檢測(cè)的是元素的熒光能量，對(duì)于分布在不同層的同一元素，普通儀器不能具體區(qū)分熒光來(lái)自具體的哪一層。

因此，目前采用X射線熒光法測(cè)試的都是計(jì)算兩層Ni的總厚度，由于不同層之間的元素吸收增強(qiáng)效應(yīng)，測(cè)試總體厚度與實(shí)際的測(cè)試結(jié)果還是存在較大誤差，同時(shí)也不能反映產(chǎn)品的實(shí)際真實(shí)情況。

一六儀器專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和FP法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光，二次熒光，靶材熒光，吸收增強(qiáng)效應(yīng)，散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法，解決了釹鐵硼磁鐵上鍍鎳鍍銅再鍍鎳的業(yè)界難題。 

下述檢測(cè)報(bào)告已經(jīng)真實(shí)的反應(yīng)出了，XT-100這款儀器是可以很好的解決多鍍層，甚至不同層有相同元素的鍍種也可分析檢測(cè)。